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《哈尔滨市志 电子仪表工业》
 
 
第四篇 电子元器件及电子材料
 
 
第三章 电子材料
 
 
第一节 半导体单晶
 
 
  1958年,哈尔滨新生开关厂在试制半导体收音机的同时,开始试制半导体单晶。技术
人员采用四氯化硅锌还原法与四氯化硅氢还原法拉制出多晶硅,其纯度达到99.9%。1959
年10月,技术人员用本厂制造的单晶炉拉制出电阻率为30欧姆·厘米,位错密度为10000个
/平方厘米的硅单晶。1965年7月,黑龙江半导体材料厂从“黑龙江半导体收音机制造厂”
划出单独成立。当时工厂已能生产直径30毫米、重量30—40克、位错密度小于5000个/平
方厘米的高、中、低阻硅单晶材料。月产量2—3千克。从1965年8月起作为正式产品对外销
售。
  1970年,黑龙江省革命委员会主要负责人提出要用“大搞群众运动的办法,使单晶硅年
产量达到30吨。在此口号影响下,哈尔滨市部分工厂企业采取“一厂一角”、“大厂办小厂”
的办法进行大会战。由于设备不配套,没有技术力量,高潮过后,大多数单位都半途而废。
只有哈尔滨半导体材料厂制造的1台1千克电阻式单晶炉,拉制出直径45毫米,长600毫米,
重700克的硅单晶。
  至1975年,哈尔滨半导体材料厂拥有单晶炉10台,多晶炉3台,制氢设备1套,石英精缩
塔3套,累计生产硅单晶300公斤,锗单晶970公斤。后由于社会需要量减少,工厂并入哈尔
滨晶体管厂成为1个车间,单晶材料自产自用。1981年11月1日,由于工厂发生火灾,烧毁厂
房1150平方米和大部分设备仪器,造成经济损失40万元。此后工厂没有恢复半导体材料生产
车间。
 
     
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