1983年11月，国家经委在北京举办的全国新产品展览会上，哈尔滨量具刃具厂选送的国内第一台KHA75-1型半自动光刻机，受到了与会的各省、市专业人员和用户的好评，并授予刻有"金龙"图案的优秀新产品奖牌。
这种接近／接触式半自动光刻机是集成电路生产的关键设备，它是一种光学、机械、电气、气动等技术综合性很高的精密设备。其用户主要是电子元器件工厂，适用于大、中规模集成电、路及半导体硅片的光刻工序。
在半自动光刻机问世之前，我国只能生产比较简单的接触式光刻机，如上海光学机械厂的JGK1型、JGK2型光刻机。1975年中国科学院109厂结合国内外光刻机的现状，设计了一套新型光刻机图纸。1977年经第一机械工业部仪器仪表局和黑龙江省机械局将试制新型光刻机的任务，下达给哈尔滨量具刃具厂和阿城继电器厂。
1978年上半年，哈尔滨量具刃具厂组成了以高级工程师李立人为主的试制组，1980年6月样机问世，工厂通过鉴定，9月运往北京中科院109厂进行工艺验证。1981年12月经过部级鉴定，认为哈尔滨量具刃具厂、中国科学院109厂、阿城继电器厂联合研制的KHA75一1型半自动光刻机(接近／接触式)，是我国近期为半导体工业配套的较好设备，适合制造大、中规模集成电路，很有实用价值，处于国内领先地位。1982年荣获一机部科学技术进步成果一等奖。
随着对产品的要求不断提高，1984年机械工业部仪器仪表局根据用户的意见，责成哈尔滨量具刃具厂和阿城继电器厂对原半自动光刻机进行改进，并将该机的研制工作列为机械工业部"六五"科技攻关项目。一种由微机控制的KHA75一IA型光刻机于1985年10月诞生。这是我国第三代光刻机，也是国内首次将微机技术应用到光刻机设备上。1986年5月经部级鉴定合格，认为该机运行可靠，性能良好，某些技术指标达到或部分超过国外同类接近／接触式光刻机的水平，相当于国际70年代末、80年代初水平，在我国处于领先地位。1987年9月，被黑龙江省科委授予"省科技进步二等奖"。
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